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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
近紫外区宽带反光镜的膜系优化设计与制备
Optimization design and preparation of near ultraviolet broadband reflector coating
投稿时间:2015-09-07  
DOI:10.3969/j.issn.1005-5630.2016.04.017
中文关键词:  近紫外  超宽带  高反射  膜系设计  折射率
英文关键词:near ultraviolet  ultra wide band  high reflective  film system  refractive index
基金项目:沈阳仪表科学研究院有限公司科研基金项目(Y1020-6101)
作者单位
姚春龙 沈阳仪表科学研究院有限公司, 辽宁 沈阳 110043
沈阳工业大学 机械工程学院, 辽宁 沈阳 110870 
宋光辉 沈阳仪表科学研究院有限公司, 辽宁 沈阳 110043 
雷鹏 沈阳仪表科学研究院有限公司, 辽宁 沈阳 110043 
王银河 沈阳仪表科学研究院有限公司, 辽宁 沈阳 110043 
张新敏 沈阳工业大学 机械工程学院, 辽宁 沈阳 110870 
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中文摘要:
      依据紫外光学系统中紫外反光镜的使用要求,并结合汞灯发光光谱,提出了R>93%@300~450 nm(R为反射率);Tavg>85%@500~1 000 nm(Tavg表示平均透过率)的近紫外区宽带高反射率的设计指标。选用Ta2O5和SiO2分别作为高低折射率材料,并采用正交试验法确定了Ta2O5和SiO2膜料的折射率、消光系数和制备工艺参数。在规整周期性膜系的基础上,利用膜系设计软件进行优化设计,同时分析了膜层的敏感度,保证了镀制的可重复性。通过曲线测试和环境试验结果表明,该膜系满足设计使用要求。
英文摘要:
      According to the operating requirements of ultraviolet reflector in the ultraviolet optical system,and with mercury lamp luminescent spectrum,the near ultraviolet broadband high reflectance design index of R>93%(300~450 nm) and Tavg>85%(500~1 000 nm) are presented.The refractive index,extinction coefficient and technological parameters of preparation of Ta2O5 and SiO2 coating materials are determined by orthogonal test,with Ta2O5 and SiO2 as high and low refractive index materials.Based on the regular periodic coating,the coating is optimally designed.Meanwhile,the sensitivity of the film is also analyzed to ensure the repeatability of coating.The results of curve test and environmental test show that the coating meets the design requirements.
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