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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
Al/Zr多层膜生长模型和数值计算
Growing model and numerical simulation of Al/Zr multilayers
  
DOI:
中文关键词:  多层膜  生长模型  功率谱密度  表面粗糙度  散射
英文关键词:multilayer  growing model  power spectrum density  surface roughness  scattering
基金项目:
作者单位
杨传春 同济大学 物理系 先进微结构材料教育部重点实验室,上海200092 
钟奇 同济大学 物理系 先进微结构材料教育部重点实验室,上海200092 
张众 同济大学 物理系 先进微结构材料教育部重点实验室,上海200092 
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中文摘要:
      在17~19 nm波段,利用直流磁控溅射技术将Al(1%wtSi)/ Zr多层膜镀制在掺氟的二氧化硅基底上,基于原子力显微镜对不同膜对数(N=10,40,60,80)表面粗糙度的测量结果,将多层膜的生长模型应用于实际结果中,对表面均方根粗糙度随着膜对数的变化进行了深入的分析,并对Stearns粗糙度动态生长理论的适用条件作了补充性讨论。
英文摘要:
      Al (1%wtSi)/Zr multilayers were fabricated by DC sputtering techniques on doped fluoride glass substrates for 17~19 nm extreme ultraviolet radiation. The surface roughness of the multilayers with variable layer pairs (N=10, 40, 60 and 80) were measured by an atomic force microscopy. Their reflectivities were measured and fitted based on multilayer growing method improved by Stearns. Experiment and analysis present that the interface roughness were variable with the growing of Al/Zr multilayers and coincide the Stearns′ method as N≤40.
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