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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
脉冲激光溅射沉积技术的发展及其应用研究
Research on development and application of pulsed laser deposition technology
  
DOI:
中文关键词:  脉冲激光溅射沉积(PLD)  功能薄膜  应用研究
英文关键词:pulsed laser deposition(PLD)  functional films  application research
基金项目:
作者单位
郭昭君 中北大学 信息与通信工程学院,山西 太原030051 
王高 中北大学 信息与通信工程学院,山西 太原030051
中北大学 教育部仪器科学与动态测试重点实验室,山西 太原030051 
赵辉 中北大学 信息与通信工程学院,山西 太原030051
中北大学 教育部仪器科学与动态测试重点实验室,山西 太原030051 
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中文摘要:
      薄膜材料已经在半导体材料、超导材料、生物材料等方面得到广泛应用。为了得到高质量的薄膜材料,脉冲激光溅射沉积(PLD)技术受到了广泛的关注。文中介绍了脉冲激光溅射沉积薄膜的基本原理及特点,分析了脉冲激光溅射沉积技术在制备高温超导膜、铁电薄膜、生物陶瓷薄膜等功能薄膜方面的应用研究。大量研究表明,脉冲激光溅射沉积是目前最好的制备薄膜的方法之一,具有很大的发展潜力和广泛的应用前景。
英文摘要:
      Thin film materials have been widely used in the semiconductor materials, superconducting materials, biological materials and so on. In order to obtain high quality thin film materials, pulsed laser deposition (PLD) technology received great attention. In this paper, the basic principles and characteristics of pulsed laser deposition have been illustrated, and the research on applications of pulsed laser deposition in depositing high temperature superconducting films, ferroelectric thin films, bioceramic films and other functional films have been also analysed. A large number of studies have shown that pulsed laser deposition is one of the best methods of films preparation with great potential and broad prospect.
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