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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
基于改进型遗传算法的薄膜厚度及光学常数反演
Inversions of thickness and optical constants of thin film based on improved genetic algorithm
  
DOI:
中文关键词:  光学薄膜  透过率  色散模型  遗传算法
英文关键词:
基金项目:
吴先权  华文深  谢大兵  赵莉君
吴先权,华文深,谢大兵(军械工程学院,光学与电子工程系,河北,石家庄,050003)
;赵莉君(哈尔滨工业大学,理学院,黑龙江,哈尔滨,150001)
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中文摘要:
      准确的测量薄膜的厚度和光学常数,在薄膜的制备、研究和应用中都十分重要.借助Cauchy色散模型和P阶评函数,通过薄膜透过率测量曲线,用改进的遗传算法对透过率曲线进行全光谱拟合,从而反演得到薄膜的厚度和光学常数.理论验证是对电子束蒸发制备的TiO2和反应磁控溅射制备的Si3N4薄膜进行测试拟合,计算得到的结果与文献报道的一致,误差小于0.5%.
英文摘要:
      
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