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| 原子光刻中的原子沉积数值模拟 |
| Numerical simulation of atomic deposition in the atom lithography |
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| DOI: |
| 中文关键词: 原子光刻 原子汇聚 有限差分法 |
| 英文关键词: |
| 基金项目:国家自然科学基金资助项目,上海市纳米技术专项基金资助项目,国家科技支撑计划资助项目? |
| 梅卓君 王占山 马艳 |
| 同济大学物理系,精密光学工程技术研究所,上海,200092? |
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| 中文摘要: |
| 近年来,有关原子光刻的实验研究得到了快速发展,并取得了一系列重大的实验进展.在原子光刻中,对不同原子在各种条件下的沉积过程的研究是具有非常重要的意义的.现利用有限差分法求解光与原子作用的薛定谔方程分析了激光功率、失谐量、腰斑大小以及原子纵向速度对汇聚效果的影响,总结了一些原子在驻波场中各项参数对沉积效果的影响. |
| 英文摘要: |
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