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| 193nm光刻投影物镜的研究 |
| Study on 193nm lithographic projection lens |
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| DOI: |
| 中文关键词: 光刻投影物镜 光刻机 光刻工艺 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 耿康 |
阿斯麦(天津) 光刻设备有限公司上海分公司,上海,201203? |
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| 中文摘要: |
| 为了跟踪国际光刻设备的发展,介绍了工作波长为193nm国际主流光刻机的发展现状,对光刻机的核心-投影物镜的设计原理进行了分析,针对投影物镜光学系统参数、光学结构、光学材料和机械结构进行了深入探讨,最后对中国光刻机的发展前景进行展望. |
| 英文摘要: |
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