|
| 掺杂Gd2O3对ZrO2薄膜负非均匀性的影响 |
| Impact of ZrO2 film negative non-uniformity doped Gd2O3 |
| |
| DOI: |
| 中文关键词: 光学薄膜 负非均匀性 膜料固相混合 膜层微观结构 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 薛锦 王平秋 刘琼 代礼密 |
| 西南技术物理研究所,四川,成都,610041? |
| 摘要点击次数: 1942 |
| 全文下载次数: 10 |
| 中文摘要: |
| ZrO2膜层具有明显的负非均匀性,严重影响了在光学薄膜制备中的应用,特别是对多层增透膜有明显的影响.通过对膜层微观结构及生长成核过程的研究,揭示了ZrO2膜层负非均匀性产生的原因及特点.基于此,在ZrO2膜料中掺如一定量的Gd2O3膜料,在电子束蒸发和适当的真空度、淀积速率、基底温度等工艺条件下,明显地降低了ZrO2膜层折射率的负非均匀性,从而提高ZrO2膜层光学使用性能. |
| 英文摘要: |
| |
| HTML 查看全文 查看/发表评论 下载PDF阅读器 |
| 关闭 |
|
|
|