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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
掺杂Gd2O3对ZrO2薄膜负非均匀性的影响
Impact of ZrO2 film negative non-uniformity doped Gd2O3
  
DOI:
中文关键词:  光学薄膜  负非均匀性  膜料固相混合  膜层微观结构
英文关键词:
基金项目:
薛锦  王平秋  刘琼  代礼密
西南技术物理研究所,四川,成都,610041?
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中文摘要:
      ZrO2膜层具有明显的负非均匀性,严重影响了在光学薄膜制备中的应用,特别是对多层增透膜有明显的影响.通过对膜层微观结构及生长成核过程的研究,揭示了ZrO2膜层负非均匀性产生的原因及特点.基于此,在ZrO2膜料中掺如一定量的Gd2O3膜料,在电子束蒸发和适当的真空度、淀积速率、基底温度等工艺条件下,明显地降低了ZrO2膜层折射率的负非均匀性,从而提高ZrO2膜层光学使用性能.
英文摘要:
      
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