|
| 单基片多次曝光实现光栅拼接的理论分析 |
| Theoretical analysis of tiled grating by multiple-exposure hologram on single substrate |
| |
| DOI: |
| 中文关键词: 光栅拼接 远场衍射 拼接误差 惯性约束聚变 |
| 英文关键词: |
| 基金项目:863计划资助项目
? |
| 钱国林 吴建宏 李朝明 |
|
| 摘要点击次数: 2064 |
| 全文下载次数: 10 |
| 中文摘要: |
| 为减少光栅拼接过程中需要控制的物理量,提出了一种利用单基片多次曝光实现光栅拼接的理论方案.这种拼接方法不但降低了光栅拼接难度,而且还避免了拼接完成后小光栅间的相对移动.对该方案的原理进行了分析,并模拟计算了两块光栅在面内的拼缝和转动对远场光斑特性的影响,获得了无像差情况下光栅拼接的精度. |
| 英文摘要: |
| |
| HTML 查看全文 查看/发表评论 下载PDF阅读器 |
| 关闭 |
|
|
|