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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
反射电子抑制技术和新型电子枪(BS-60050EBS)
The backscattered electrons control technology and the new type electron beam source BS-60050
  
DOI:
中文关键词:  反射电子  电子枪  吸收
英文关键词:
基金项目:
东乡 永耀  菅原 康司
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中文摘要:
      在使用电子束真空镀膜时所产生的反射电子有可能射入基板,造成MgF2等不稳定化合物薄膜吸收的增加,另外在使用萤石(CaF2)基板时则会造成基板变色等问题.BS-60050EBS电子枪优化了反射电子发生部分的磁场分布、能够有效地抑制反射电子射入基板、提高镀膜产品的质量.
英文摘要:
      
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