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| 反射电子抑制技术和新型电子枪(BS-60050EBS) |
| The backscattered electrons control technology and the new type electron beam source BS-60050 |
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| DOI: |
| 中文关键词: 反射电子 电子枪 吸收 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 东乡 永耀 菅原 康司 |
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| 中文摘要: |
| 在使用电子束真空镀膜时所产生的反射电子有可能射入基板,造成MgF2等不稳定化合物薄膜吸收的增加,另外在使用萤石(CaF2)基板时则会造成基板变色等问题.BS-60050EBS电子枪优化了反射电子发生部分的磁场分布、能够有效地抑制反射电子射入基板、提高镀膜产品的质量. |
| 英文摘要: |
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