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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
薄膜厚度对直流脉冲磁控溅射Mo薄膜光电性能的影响
Effects of thickness on optical and electrical properties of Mo films prepared by DC-PMS
  
DOI:
中文关键词:  Mo薄膜  直流脉冲磁控溅射(DC-PMS)  电阻率  反射率
英文关键词:
基金项目:大连交通大学人才引进启动基金
朱继国  柴卫平  王华林  张树旺  刘世民  张粲  汪亚辉
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中文摘要:
      采用直流脉冲磁控溅射方法在SLG衬底上沉积CIGS太阳电池背接触Mo薄膜,研究了薄膜的光学和电学性能随厚度的变化关系.结果表明,随着薄膜厚度的增加,薄膜的电阻率先降低后增加,在厚度284.3nm处电阻率最低,为7.3×10-4Ω·cm.不同厚度的Mo薄膜在各个波长处(200~840nm)反射率都随波长的增加而增大.随着薄膜厚度的增加,平均反射率总的呈下降趋势,在薄膜厚度284.3nm时出现一反射率高峰,其在200~840nm波长范围内的平均反射率达43.33%.
英文摘要:
      
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