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| 镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响 |
| Influence of chromeplating to the profile of holographic grating mask of photoresist |
| 修订日期:2007-03-19 |
| DOI: |
| 中文关键词: 衍射光栅 全息光栅掩模 铬膜 槽形 |
| 英文关键词: |
| 基金项目:江苏省高技术研究发展计划项目 |
| 陈刚 吴建宏 刘全 |
陈刚(南京信息职业技术学院微电子工程系,江苏,南京,210046) ;吴建宏(苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006) ;刘全(苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006)
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| 中文摘要: |
| 为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应.分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略.将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同.槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的.驻波效应会使掩模形成阶梯结构,且阶梯高度差正好为驻波波节间距离. |
| 英文摘要: |
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