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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响
Influence of chromeplating to the profile of holographic grating mask of photoresist
  修订日期:2007-03-19
DOI:
中文关键词:  衍射光栅  全息光栅掩模  铬膜  槽形
英文关键词:
基金项目:江苏省高技术研究发展计划项目
陈刚  吴建宏  刘全
陈刚(南京信息职业技术学院微电子工程系,江苏,南京,210046)
;吴建宏(苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006)
;刘全(苏州大学信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006)
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中文摘要:
      为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应.分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略.将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同.槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的.驻波效应会使掩模形成阶梯结构,且阶梯高度差正好为驻波波节间距离.
英文摘要:
      
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