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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
采用End-Hall源沉积类金刚石膜
Experiments on depositing diamond-like-carbon by using source End-Hall
  修订日期:2005-11-20
DOI:
中文关键词:  类金刚石膜  射频等离子放电沉积  End-Hall源  边缘效应
英文关键词:DLC,RFCVD,source End-Hall,brim effect
基金项目:教育部重点实验室基金
洪伟  赵友博  张铁群
航天科工集团三院8358所 天津300092(洪伟)
,南开大学现代光学研究所光电信息技术科学教育部重点实验室 天津300071(赵友博,张铁群)
摘要点击次数: 2072
全文下载次数: 22
中文摘要:
      介绍了两种普遍采用的类金刚石(DLC)膜沉积方法.在此基础上叙述了采用End-Hall源沉积DLC膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和DLC膜样品的分析,可看出用End-Hall源沉积方式能够消除RFCVD沉积方式所带来的边缘效应.
英文摘要:
      Two commonly adoptived depositing methods of diamond-like-carbon(DLC) are introduced and analyzed.The principles and experimental parameters of the source End-Hall DLC are presented.Experimental results and analyses on the deposited DLC coating samples are demonstrated.The brim effects introduced by RFCVD can be removed by source End-Hall deposition method.
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