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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
低压反应离子镀制备Ge1-xCx薄膜的硬度研究
Study hardness of Ge1-xCx coatings prepared by RLVIP Technique
  修订日期:2006-06-30
DOI:
中文关键词:  Ge1-xCx  硬度  低压反应离子镀(RLVIP)
英文关键词:Ge_(1-x)C_x,hardness,reactive low voltage ion plating(RLVIP)
基金项目:国家自然科学基金
王彤彤  高劲松  王笑夷  宋琦  陈红  郑宣明  申振峰  单兆会  凌伟
王彤彤(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,吉林,长春,130033)
;高劲松(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,吉林,长春,130033)
;王笑夷(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,吉林,长春,130033)
;宋琦(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,吉林,长春,130033)
;陈红(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,吉林,长春,130033)
;郑宣明(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,吉林,长春,130033)
;申振峰(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,吉林,长春,130033)
;单兆会(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心,吉林,长春,130033)
;凌伟(海军驻长春地区航空军代表室,吉林,长春,130033)
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中文摘要:
      应用低压反应离子镀的薄膜制备方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜,随着沉积速度在0.1nm/s~0.9nm/s之间变化,Ge1-xCx薄膜的硬度在2.12 GPa~11.066 GPa之间可变,当沉积速率为0.9nm/s时,Ge1-xCx薄膜最大硬度为11.066 GPa.XRD测试结果表明,沉积的Ge1-xCx薄膜均为无定形结构.对薄膜稳定性和牢固度的测试表明,制备的Ge1-xCx薄膜在具有较高的硬度的同时,也有良好的性能.
英文摘要:
      
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