用户登录
期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
中红外高反膜的激光热场分析
Laser-induced heating of mid-infrared high reflectance coatings
  修订日期:2006-06-30
DOI:
中文关键词:  高斯光  中红外  光学薄膜  热过程  数值计算
英文关键词:Gaussian beam,mid-infrared,optical thin films,thermal process,numerical analysis
基金项目:国家重点实验室基金
王颖  章岳光  刘旭  顾培夫  厉以宇  李明宇
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 浙江杭州310027
摘要点击次数: 2050
全文下载次数: 13
中文摘要:
      为了分析薄膜内部激光引起的电热场效应,提出了一种模拟锥形高斯光入射多层介质薄膜后电场和热场分布的方法.该方法能够分析薄膜中高斯光各个角谱分量叠加形成的电场的分布,进而得到由于薄膜本征吸收产生的热量沉积以及薄膜内部的温度场分布.针对三种中心波长为4.3μm高反膜进行了分析,比较了激光垂直入射和斜入射两种不同工作方式的全介质高反膜系以及金属加介质高反膜系的温度峰值,结果表明全介质高反膜的温度峰值明显低于金属加介质膜系.
英文摘要:
      
HTML   查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭