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| 退火对真空蒸发Ti3O5制备光学薄膜性能的影响 |
| Effects of annealing on the optical thin films deposited by EB |
| 修订日期:2005-06-27 |
| DOI: |
| 中文关键词: Ti3O5 光学薄膜 退火 |
| 英文关键词:Ti_3O_5,optical thin film,annealing |
| 基金项目: |
| 胡小锋 薛亦渝 郭爱云 |
胡小锋(武汉理工大学,湖北,武汉,430070) ;薛亦渝(武汉理工大学,湖北,武汉,430070) ;郭爱云(武汉理工大学,湖北,武汉,430070)
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| 中文摘要: |
| 采用真空蒸发法,以Ti3O5为膜料分别在基片温度为200℃、250℃、300℃的条件下制备氧化钛光学薄膜,XRD结果显示,沉积态薄膜为无定形态,400℃退火后,均由无定形态向锐铁矿结构转变;不同基片温度下制备的氧化钛薄膜退火后,折射率均随基片温度的升高而增大;随着退火温度的升高,(101)晶相择优取向十分明显,结晶度增大;经过400℃、500℃、600℃退火后,薄膜折射率逐渐上升. |
| 英文摘要: |
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