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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
退火对真空蒸发Ti3O5制备光学薄膜性能的影响
Effects of annealing on the optical thin films deposited by EB
  修订日期:2005-06-27
DOI:
中文关键词:  Ti3O5  光学薄膜  退火
英文关键词:Ti_3O_5,optical thin film,annealing
基金项目:
胡小锋  薛亦渝  郭爱云
胡小锋(武汉理工大学,湖北,武汉,430070)
;薛亦渝(武汉理工大学,湖北,武汉,430070)
;郭爱云(武汉理工大学,湖北,武汉,430070)
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中文摘要:
      采用真空蒸发法,以Ti3O5为膜料分别在基片温度为200℃、250℃、300℃的条件下制备氧化钛光学薄膜,XRD结果显示,沉积态薄膜为无定形态,400℃退火后,均由无定形态向锐铁矿结构转变;不同基片温度下制备的氧化钛薄膜退火后,折射率均随基片温度的升高而增大;随着退火温度的升高,(101)晶相择优取向十分明显,结晶度增大;经过400℃、500℃、600℃退火后,薄膜折射率逐渐上升.
英文摘要:
      
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