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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
基底温度对YbF3薄膜缺陷和光学性能影响研究
Study on the influence of substance temperature on the defect and optical performance of single YbF3 films
  修订日期:2005-04-11
DOI:
中文关键词:  YbF3薄膜  表面粗糙度  缺陷密度  光学薄膜
英文关键词:YbF_3 films,surface roughness,defect density,optical thin film
基金项目:国家科技攻关项目
张耀平  张云洞  凌宁  许鸿
张耀平(中国科学院,光电技术研究所,四川,成都,610209;中国科学院研究生院,北京,100039)
;张云洞(中国科学院,光电技术研究所,四川,成都,610209)
;凌宁(中国科学院,光电技术研究所,四川,成都,610209)
;许鸿(中国科学院,光电技术研究所,四川,成都,610209)
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中文摘要:
      采用热蒸发法镀制了单层YbF3薄膜,观察了薄膜表面主要的微观结构缺陷,研究了沉积温度对薄膜折射率与表面缺陷的影响,测量了薄膜施加沉积温度前后的粗糙度变化.结果表明:通过加温可以降低薄膜的表面粗糙度与缺陷密度大小.
英文摘要:
      A series of single YbF_3 films were prepared by evaporation.The microstructure defects on film surfaces and the effect of deposition temperature on it were investigated.The rms surface roughness was measured.It was shown that the film surface defect density could decreased by applying deposition temperature.
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