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| 基底温度对YbF3薄膜缺陷和光学性能影响研究 |
| Study on the influence of substance temperature on the defect and optical performance of single YbF3 films |
| 修订日期:2005-04-11 |
| DOI: |
| 中文关键词: YbF3薄膜 表面粗糙度 缺陷密度 光学薄膜 |
| 英文关键词:YbF_3 films,surface roughness,defect density,optical thin film |
| 基金项目:国家科技攻关项目 |
| 张耀平 张云洞 凌宁 许鸿 |
张耀平(中国科学院,光电技术研究所,四川,成都,610209;中国科学院研究生院,北京,100039) ;张云洞(中国科学院,光电技术研究所,四川,成都,610209) ;凌宁(中国科学院,光电技术研究所,四川,成都,610209) ;许鸿(中国科学院,光电技术研究所,四川,成都,610209)
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| 中文摘要: |
| 采用热蒸发法镀制了单层YbF3薄膜,观察了薄膜表面主要的微观结构缺陷,研究了沉积温度对薄膜折射率与表面缺陷的影响,测量了薄膜施加沉积温度前后的粗糙度变化.结果表明:通过加温可以降低薄膜的表面粗糙度与缺陷密度大小. |
| 英文摘要: |
| A series of single YbF_3 films were prepared by evaporation.The microstructure defects on film surfaces and the effect of deposition temperature on it were investigated.The rms surface roughness was measured.It was shown that the film surface defect density could decreased by applying deposition temperature. |
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