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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
四大公司联手研制纳米光刻技术目标为线宽22nm
  
DOI:
中文关键词:  技术目标  纳米光刻  线宽  公司  计算机芯片  光刻技术  联合开发  集成电路  纽约州
英文关键词:
基金项目:
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中文摘要:
      著名的四大计算机芯片制造商将与纽约州合作,在今后5年内出资5亿美元,联合开发下一代计算机芯片光刻技术,研究线宽只有人头发丝千万分之一(22nm)的集成电路。IBM、超微(AMD)、美光(Micron)及德国英飞凌四家公司与纽约州不久前宣布了这一计划。
英文摘要:
      
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