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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
二元光学元件的制作技术与进展
Fabrication technology and development of binary optical elements
  修订日期:2004-07-26
DOI:
中文关键词:  二元光学,制作工艺,刻蚀,直写法
英文关键词:binary optics,fabrication technology,etching,direct writing
基金项目:
张羽  杨坤涛  杨长城
华中科技大学光电系 湖北武汉430074 (张羽,杨坤涛)
,华中光电技术研究所 湖北武汉430074(杨长城)
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中文摘要:
      综述了二元光学元件的常用制作工艺技术,包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法。分析了这些方法的优缺点,并对其制作技术的发展进行了评述。
英文摘要:
      The common fabrication technologies of binary optical elements were expatiated, including etching, thin-film deposition, direct writing, excimer laser projection and gray-scale masks. The merit and defect of these technologies were analyzed, and the development of fabrication technology were summarized.
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