用户登录
期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
中等口径光学非球面的高效研抛技术
An investigation on polishing aspheric surface with middle aperture efficiently
  修订日期:2004-04-14
DOI:
中文关键词:  非球面抛光,小磨头修正抛光,特征去除函数
英文关键词:polishing aspheric surface,corrective polishing with small-tools,removal function
基金项目:
顾敏芝  何良芳
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 浙江杭州310027 (顾敏芝)
,浙江工业大学 浙江杭州310027(何良芳)
摘要点击次数: 2791
全文下载次数: 13
中文摘要:
      介绍了一种弹性模抛光与小磨头修正抛光相结合的两步研抛法实现中等口径光学非球面表面的快速抛光。利用弹性模预抛光来保证小工具抛光模型的准确稳定,并采用补偿的方法减小弹性模抛光对面形精度的破坏作用。然后利用优化的小磨头修正残留的表面误差来提高抛光精度。应用上述方法加工非球面,在较短的抛光周期中,获得的面形P-V精度达0.35μm。
英文摘要:
      
HTML   查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭