用户登录
期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
光学薄膜领域反应磁控溅射技术的进展
Advances in reactive magnetron sputtering (RMS) applied on optical coating
  修订日期:2003-11-30
DOI:
中文关键词:  反应磁控溅射,光学薄膜,滤光片
英文关键词:RMS,optical coating,optical filter
基金项目:
闫宏  赵福庭
北京电影机械研究所,北京电影机械研究所 北京100026,北京100026
摘要点击次数: 3170
全文下载次数: 20
中文摘要:
      光学薄膜领域应用反应磁控溅射技术已有多年,反应磁控溅射对提高薄膜质量及降低工艺成本的作用,已受到业界的重视,正在进入工业生产之中。对光学薄膜领域中反应磁控溅射技术中的相关问题进行了评述,提出了一种可能的方案。
英文摘要:
      Reactive magnetron sputtering (RMS) has been applied in the field of optical coating for many years.A lot of attention has been paid by optical coating manufacutures on RMS due to its function of enhancing the quality of optical thin films with lower cost.RMS is now entering industrial production. The paper describes some progress in RMS and shows a possible strategy for rebuild an old-version evaporation coater to a RMS plant.
HTML   查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭