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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
时间监控离子束溅射沉积光学薄膜的厚度修正
Thickness modify of time-power monitoring of ion beam sputter depositing optical thin films
  修订日期:2003-11-30
DOI:
中文关键词:  离子束溅射,时间监控,光学厚度
英文关键词:ion beam sputter,time-power monitoring,optical thickness
基金项目:
刘洪祥  李凌辉  申林  熊胜明  张云洞
中国科学院光电技术研究所,中国科学院光电技术研究所,中国科学院光电技术研究所,中国科学院光电技术研究所,中国科学院光电技术研究所 四川成都610209,四川成都610209,四川成都610209,四川成都610209,四川成都610209
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中文摘要:
      通过单层和多层膜的实验模拟,研究了离子束溅射沉积速率和沉积时间的关系。在溅射镀膜的初始阶段,对于Ta2O5,沉积速率随时间增加而增大;对于SiO2,沉积速率随时间先显著地增加,随后逐渐地减小。结果表明,通过对高、低折射率各层的监控时间进行补偿,即可实现光学薄膜厚度的精确监控。
英文摘要:
      In this paper, the rule of the deposition rate of films and the sputtering time was studied. In the preliminary stage of coating, for Ta_2O_5, its growth rate increases with the depositing time; but, for SiO_2, its growth rate increases firstly, and then decreases. Experiments showed that, by modifying the deposition time of the high-index and the low-index layers, this can realize the accurate thickness control of time-power monitoring of ion beam sputter depositing optical thin films.
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