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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
16厘米低能强流宽束离子源
16 cm diameter low energy broad beam ion source
  修订日期:2003-11-30
DOI:
中文关键词:  多会切磁场,低能,宽束,离子源
英文关键词:multicusp,low energy,broad beam,ion source
基金项目:
冯毓材  于梦蛟  冯隽
北京东方安泰克高技术有限公司,北京东方安泰克高技术有限公司,北京东方安泰克高技术有限公司 北京100101,北京100101,北京100101
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中文摘要:
      介绍了一个新型16厘米束径多会切磁场低能强流宽束离子源(MCLB-16)。由于采用新型多会切磁场和优化的低能引出系统,所以该源在薄膜辅助沉积的能量(200eV~800eV)范围内,具有较好的低能特性。源的最大引出束流可达650mA。可用反应气体或惰性气体工作。源在使用氧气时,可连续工作数十小时。该源可用于各种高性能薄膜制备的辅助沉积,也可用于制备大面积类金钢石膜(DLC)。叙述了该源的结构及性能。
英文摘要:
      This paper describes a 16 cm diameter multicusp low energy broad beam ion source. The source has good performance in the low energy region. It can extract beam current 200 mA at beam energy as low as 200 eV. The maximum extractable beam current is up to 650 mA at beam energy 800eV. The inert and reactive gases are compatible and can run for several ten hours for Oxygen, continuously. So the source is well suitable for the optical thin film assisted deposition to prepare the high quality films. The structure and performance of this ion source will be presented in this paper.
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