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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
离子辅助沉积TiO2光学薄膜的特性
Properties of TiO2 film deposited by IAD process
  修订日期:2003-11-30
DOI:
中文关键词:  氧化钛光学薄膜(TiO2)  离子辅助沉积(IAD)  散射  应力  微观结构
英文关键词:TiO_2,IAD,Scattering,Stress,Microstructure,
基金项目:
范滨  唐骐
范滨(株式会社光驰,琦玉县,川越市,350-0801)
;唐骐(株式会社光驰,琦玉县,川越市,350-0801)
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中文摘要:
      阐述了用离子辅助沉积(IAD)工艺制备氧化钛(TiO2)光学薄膜的光学、应力及微观特性,并讨论了其与离子辅助沉积成膜工艺参数之间的相互关系.
英文摘要:
      The optical, stress and microstructure properties of TiO_2 film deposited by ion assisted deposition process were described in this paper. The relationship between these properties with IAD coating conditions was discussed.
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