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| 高真空光刻样品CCD显微观察装置 |
| The CCD microscope used for the samples generated by atom lithography in high vacuum system |
| 修订日期：2003-01-15 |
| DOI： |
| 中文关键词: 原子光刻,CCD,显微系统,柯拉照明 |
| 英文关键词:atom lithography,CCD,microscope system,Kohler illumination |
| 基金项目:中科院知识创新工程资助项目 ( A2 K0 0 0 9)，微细加工光学技术国家重点实验室开放基金资助项目 ( KFS4) |
| 陈元培 陈旭南 李展 高洪涛 陈献忠 |
中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 四川成都610209
(陈元培，陈旭南，李展，高洪涛)
，中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 四川成都610209(陈献忠)
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| 中文摘要: |
| 介绍了利用光场控制中性原子束制作微细图形的基本原理。针对具体的实验系统 ,设计并建立了一套用于高真空系统中原子光刻样品的 CCD显微观察装置 ,该装置以CCD相机实时采样通过计算机自动图像处理直接显示和输出样品的微结构信息。与传统装置相比 ,该装置在实验初期摸索实验工艺参数方面具有非常重要的作用。 |
| 英文摘要: |
| The basic principle of fabricating nanometer patterns by controlling neutral atoms is introduced in this paper. Against the actual experiment system , a CCD microscope used for the samples generated by atom lithography in high vacuum system is designed and built up . With CCD camera sampling at real-time , the apparatus directly displays and provides the data of microstructure on the sample surface through automatic image processing by computer. Compared with the traditional method, it increases a function for adjusting the technological parameters at real-time during the experiment. |
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