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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
铌酸锶钡铁电薄膜的微结构与薄膜厚度的关系
Relationship of microstructure and thickness in ferroelectric Strontium Barium Niobate thin film
  
DOI:
中文关键词:  铁电薄膜,铌酸锶钡,微结构,薄膜厚度
英文关键词:ferroelectric thin film,Strontium Barium Niobate,microstructure,thickness
基金项目:浙江省自然科学基金资助项目 ( 5 0 0 0 77)
叶辉  何敏德  麦炽良
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 浙江杭州310027 (叶辉)
,香港理工大学应用物理系及材料研究中心 香港九龙红堪 (何敏德)
,香港理工大学应用物理系及材料研究中心 香港九龙红堪(麦炽良)
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中文摘要:
      叙述了使用溶胶—凝胶法在 Si( 0 0 1 )基片上制备不同厚度的铁电铌酸锶钡薄膜的过程 ,使用 X射线衍射 ,扫描电子显微镜 ,拉曼散射光谱等方法研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系 ,薄膜的厚度一直能够达到 5 μm。实验发现 ,随着厚度的增加 ,SBN60薄膜在 ( 0 0 1 )方向的优先取向性越来越好。在逐层生长的过程中 ,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用 ,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配 ,从而使得晶体的结晶取向性越来越好
英文摘要:
      
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