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| 铌酸锶钡铁电薄膜的微结构与薄膜厚度的关系 |
| Relationship of microstructure and thickness in ferroelectric Strontium Barium Niobate thin film |
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| DOI: |
| 中文关键词: 铁电薄膜,铌酸锶钡,微结构,薄膜厚度 |
| 英文关键词:ferroelectric thin film,Strontium Barium Niobate,microstructure,thickness |
| 基金项目:浙江省自然科学基金资助项目 ( 5 0 0 0 77) |
| 叶辉 何敏德 麦炽良 |
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 浙江杭州310027
(叶辉) ,香港理工大学应用物理系及材料研究中心 香港九龙红堪
(何敏德) ,香港理工大学应用物理系及材料研究中心 香港九龙红堪(麦炽良)
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| 中文摘要: |
| 叙述了使用溶胶—凝胶法在 Si( 0 0 1 )基片上制备不同厚度的铁电铌酸锶钡薄膜的过程 ,使用 X射线衍射 ,扫描电子显微镜 ,拉曼散射光谱等方法研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系 ,薄膜的厚度一直能够达到 5 μm。实验发现 ,随着厚度的增加 ,SBN60薄膜在 ( 0 0 1 )方向的优先取向性越来越好。在逐层生长的过程中 ,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用 ,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配 ,从而使得晶体的结晶取向性越来越好 |
| 英文摘要: |
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