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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
高反射率13nmMo/Si多层膜
High reflection 13nm Mo/Si multilayer
  
DOI:
中文关键词:  软X射线多层膜,原子力显微镜,离子束溅射镀膜
英文关键词:soft x ray multilayer,atomic force microscope,ion beam sputtering deposition
基金项目:
刘毅楠  马月英  曹健林
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室 吉林长春130022 (刘毅楠,马月英)
,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室 吉林长春130022(曹健林)
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中文摘要:
      采用离子束溅射在不同的工艺参数下制备一系列单层 Mo膜、Si膜及多层膜 ,并用原子力显微镜分析单层膜表面粗糙度及两种材料间的界面扩散。当束流电压超过一定数值时 ,可避免单层膜的柱状生长 ;在 Mo- on- Si和 Si- on- Mo界面中 ,Mo- on- Si界面扩散对反射率的影响更大。采用 X射线衍射仪分析多层膜中 Mo、Si材料的晶体结构 ,均为多晶结构 ,其中 Mo为 ( 1 1 0 )晶向 ,Si为 ( 4 0 0 )晶向。根据上述分析优化工艺参数 ,获得的 1 3nm Mo/Si多层膜反射率达到 60 %。
英文摘要:
      
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