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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
X射线激光自支撑Mo滤光膜的制备及特性研究
Preparation and characterization of free-standing molybdenum filter for x-ray laser
  
DOI:
中文关键词:  Mo薄膜,磁控溅射,表面形貌,应力
英文关键词:molybdenum thin film,magnetron sputtering,surface morphology,stress
基金项目:
吴永刚  曹二华  王占山  魏军明  顾春时  唐伟星  陈玲燕
同济大学波耳固体物理研究所,同济大学波耳固体物理研究所,同济大学波耳固体物理研究所,同济大学波耳固体物理研究所,同济大学波耳固体物理研究所,同济大学波耳固体物理研究所,同济大学波耳固体物理研究所 上海200092,上海200092,上海200092,上海200092,上海200092,
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中文摘要:
      用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积 Mo薄膜 ,将薄膜在真空环境中进行热处理 ,用扫描探针显微镜 ( SPM)方法观察了薄膜的表面形貌 ,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系。发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向 ,内应力沿径向对称分布 ,切向应力比径向应力更具有压应力特性 ,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关。真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显 ,然而能有效地释放薄膜中的张应力。用 HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑 Mo薄膜 ,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化。
英文摘要:
      Molybdenum films were deposited onto polished glass substrates with dc circular planar magnetron sputtering,and annealed in vacuum.Scan probe microscopy was applied to observe the morphology of the films,X ray diffractometry was used to analyze internal stress anisotropy and its relation with the deposition working gas pressure.Preferred orientation of the (110)plane parallel to the surface was found in the films,the stress in the tangential direction was more compressive than that in the radial direction,the stresses anisotropy in the films were related to the incident direction of the deposition species.Annealing the films in vacuum could hardly release the compressive stress,but can effectively release the tensile stress.Free standing Mo films were obtained by chemically etching the un masked substrates,the morphology of the films before and after peeling off didn't show great difference.
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