用户登录
期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
Ge-Sb-Te-O相变薄膜的光学性质研究
Optical properties of Ge-Sb-Te-O phase-change films
  
DOI:
中文关键词:  Ge-Sb-Te-O,相变薄膜,氧掺杂,反射率对比度,光存储
英文关键词:Ge Sb Te O,phase change films,oxygen doping,reflectivity contrast,optical storage
基金项目:国家自然科学基金重点项目 ( 5 9832 0 6 0 )
顾四朋  侯立松  曾贤成  赵启涛
中国科学院上海光学精密机械研究所 上海201800 (顾四朋,侯立松,曾贤成)
,中国科学院上海光学精密机械研究所 上海201800(赵启涛)
摘要点击次数: 2033
全文下载次数: 11
中文摘要:
      研究了单层 Ge- Sb- Te- O射频溅射薄膜在 40 0 nm~ 80 0 nm区域的光学常数 ( N,K)和反射、透射光谱 ,发现适当的氧掺杂能增加退火前后反射率对比度 ,因此 ,可以通过氧掺杂改良 Ge- Sb- Te相变材料的光存储性能
英文摘要:
      
HTML   查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭