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| Ge-Sb-Te-O相变薄膜的光学性质研究 |
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| DOI: |
| 中文关键词: Ge-Sb-Te-O 相变薄膜 氧掺杂 反射率对比度 光存储 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 顾四朋 侯立松 曾贤成 赵启涛 |
| 中国科学院上海光学精密机械研究所上海 201800 中国科学院上海光学精密机械研究所上海 201800 中国科学院上海光学精密机械研究所上海 201800 中国科学院上海光学精密机械研究所上海 201800 |
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| 中文摘要: |
| 研究了单层Ge-Sb-Te-O射频溅射薄膜在400nm~800nm区域的光学常数(N,K)和反射、透射光谱,发现适当的氧掺杂能增加退火前后反射率对比度,因此,可以通过氧掺杂改良Ge-Sb-Te相变材料的光存储性能. |
| 英文摘要: |
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