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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
铌酸锶钡铁电薄膜的微结构与薄膜厚度的关系
Relationship of microstructure and thickness in ferroelectric Strontium Barium Niobate thin film
  修订日期:2001-08-30
DOI:
中文关键词:  铁电薄膜  铌酸锶钡  微结构  薄膜厚度
英文关键词:
基金项目:浙江省自然科学基金资助项目(500077)
叶辉  何敏德  
叶辉(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室浙江杭州310027)
;何敏德(香港理工大学应用物理系及材料研究中心香港九龙红堪)
;麦炽良(香港理工大学应用物理系及材料研究中心香港九龙红堪)
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中文摘要:
      叙述了使用溶胶-凝胶法在Si(001)基片上制备不同厚度的铁电铌酸锶钡薄膜的过程,使用X射线衍射,扫描电子显微镜,拉曼散射光谱等方法研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系,薄膜的厚度一直能够达到5μm.实验发现,随着厚度的增加,SBN60薄膜在(001)方向的优先取向性越来越好.在逐层生长的过程中,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配,从而使得晶体的结晶取向性越来越好.
英文摘要:
      
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