用户登录
期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
X射线激光自支撑Mo滤光膜的制备及特性研究
Preparation and characterization of free-standing molybdenum filter for x-ray laser
  修订日期:2001-08-30
DOI:
中文关键词:  Mo薄膜  磁控溅射  表面形貌  应力
英文关键词:
基金项目:
吴永刚  曹二华  
吴永刚(同济大学波耳固体物理研究所上海200092)
;曹二华(同济大学波耳固体物理研究所上海200092)
;王占山(同济大学波耳固体物理研究所上海200092)
;魏军明(同济大学波耳固体物理研究所上海200092)
;顾春时(同济大学波耳固体物理研究所上海200092)
;唐伟星(同济大学波耳固体物理研究所上海200092)
;陈玲燕(同济大学波耳固体物理研究所上海200092)
摘要点击次数: 2589
全文下载次数: 14
中文摘要:
      用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积Mo薄膜,将薄膜在真空环境中进行热处理,用扫描探针显微镜(SPM)方法观察了薄膜的表面形貌,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系.发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向,内应力沿径向对称分布,切向应力比径向应力更具有压应力特性,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关.真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显,然而能有效地释放薄膜中的张应力.用HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑Mo薄膜,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化.
英文摘要:
      
HTML   查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭