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| 用于辅助镀膜的霍尔等离子体源 |
| The hall accelerater for assisted deposition |
| 修订日期:2000-08-30 |
| DOI: |
| 中文关键词: 光学镀膜 离子束辅助镀膜 等离子体加速 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 尤大伟 黄小刚 等 |
尤大伟(中国科学院空间科学与应用研究中心北京100080) ;黄小刚(中国科学院空间科学与应用研究中心北京100080) ;武建军(中国科学院空间科学与应用研究中心北京100080)
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| 中文摘要: |
| 论述了该源的工作原理,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布.设计采用了永久磁铁并利用极靴产生发散磁,沿轴向有较大梯度的磁场,又称该源为端部霍尔加速器.最后给出了束流及均匀区实测结果. |
| 英文摘要: |
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