|
| 光学镀膜用大束密均匀区离子源 |
| An ion source with good beam current density uniformity for optical filmsdeposition |
| 修订日期:2001-08-30 |
| DOI: |
| 中文关键词: 离子源 束流密度 均匀性 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 况园珠 郑保民 等 |
况园珠(中国科学院空间科学与应用研究中心北京
100080) ;郑保民(中国科学院空间科学与应用研究中心北京 100080) ;李安杰(中国科学院空间科学与应用研究中心北京 100080)
|
| 摘要点击次数: 1879 |
| 全文下载次数: 14 |
| 中文摘要: |
| 介绍一个适用于光学镀膜用的直径为120mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数,并对影响束密均匀性的因素进行了讨论. |
| 英文摘要: |
| |
| HTML 查看全文 查看/发表评论 下载PDF阅读器 |
| 关闭 |
|
|
|