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| 脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量 |
| Measuring on emission characteristic of pulse vacuum arc ion deposition |
| 修订日期:2001-08-30 |
| DOI: |
| 中文关键词: 膜厚测量 离子源 薄膜沉积 |
| 英文关键词: |
| 基金项目:陕西省自然科学研究计划项目(200C25) |
| 蔡长龙 杭凌侠 等 |
蔡长龙(西安交通大学电气工程学院陕西西安 710049) ;蔡长龙(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032) ;杭凌侠(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032) ;李刚(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032) ;徐均琪(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032) ;严一心(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032) ;朱昌(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032)
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| 中文摘要: |
| 通过大量工艺实验,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数的样品,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线. |
| 英文摘要: |
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