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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量
Measuring on emission characteristic of pulse vacuum arc ion deposition
  修订日期:2001-08-30
DOI:
中文关键词:  膜厚测量  离子源  薄膜沉积
英文关键词:
基金项目:陕西省自然科学研究计划项目(200C25)
蔡长龙  杭凌侠  
蔡长龙(西安交通大学电气工程学院陕西西安 710049)
;蔡长龙(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032)
;杭凌侠(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032)
;李刚(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032)
;徐均琪(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032)
;严一心(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032)
;朱昌(西安工业学院光电工程与科学系陕西西安 710032)
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中文摘要:
      通过大量工艺实验,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数的样品,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线.
英文摘要:
      
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