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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
ECR Plasma CVD淀积介质膜的工艺模拟
Simulation Based Prediction of Refractive Index of Dielectric Thin Film Deposition by ECR Plasma CVD
  
DOI:
中文关键词:  ECRPlasmaCVD,人工神经网络,气流配比,折射率
英文关键词:ECR Plasma CVD, Artificial Neural Network, Gas Ratio, Refractive Index.
基金项目:
谭满清  陆建祖  李玉鉴
中国科学院半导体研究所工程中心!北京100083
摘要点击次数: 2015
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中文摘要:
      以实验数据为基础,运用人工神经网络方法,建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR Plasm a CVD)淀积硅的氮、氧化物介质膜折射率n 与气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)关系的数学模型,此模型在给定气流配比Q(N2 )/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)时所预测的成膜折射率跟实验值符合得很好,该数学模型为ECR Plasm a CVD淀积全介质光学膜的工艺模拟打下坚实的基础。
英文摘要:
      Based on experiment result, a mathematical model has been established in this paper for the relation between refractive index n of silicon oxide or nitride and gas ratio Q(N 2)/Q(SiH 4),Q(O 2)/Q(SiH 4) by artificial neural network. A good prediction is made for the refractive index n by the model when gas ratioQ(N 2)/Q(SiH 4),Q(O 2)/Q(SiH 4) are given. And the model is basic of simulation for all dielectric optical coatings deposition by ECR plasma CVD.
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