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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
等离子辅助成膜技术
Plasma Ion Assisted Deposition Technique
  
DOI:
中文关键词:  光学膜,离子辅助沉积,等离子辅助沉积
英文关键词:Optical Coatinags, Ion Assisted Deposition, Plasma Assisted Evaporation.
基金项目:国家自然科学基金
林永昌  尤大纬  李晓谦  沈立新  郑陪雨
北京理工大学光电工程系!北京100081(林永昌)
,中科院空间中心!北京100081(尤大纬,李晓谦)
,北京仪器厂!北京100022(沈立新,郑陪雨)
摘要点击次数: 2237
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中文摘要:
      等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术,报道了我们研制的等离子辅助源的性能指标,用这个源制造的TiO2 膜工艺与成膜质量,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。
英文摘要:
      Plasma ion assisted deposition is a powerful technology for the production of optical coatings. This paper mainly discusses the performance specification of plasma source, technology and quality of TiO 2 coatings and the technology for antireflection coatings deposited with plasma IAD.
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