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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
脉冲多弧离子源的研制
Research on the Pulsed Multi-arc Ion Source
  
DOI:
中文关键词:  脉冲多弧,离子源,离子镀,薄膜
英文关键词:Pulsed Multi arc, Ion Source, Ion Plating, Thin Film.
基金项目:
严一心  杭凌侠  朱昌
西安工业学院!西安710032
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中文摘要:
      脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜,研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。
英文摘要:
      The pulsed multi arc ion source has been used to prepare diamond like (DLC) film and metal film and alloy film. This paper studies its method of ignited arc, stability of discharge and influence of structure of pulsed multi arc ion source on deposition uniformity. On these bases, the pulsed multe arc ion source is prepared. DLC films and the nickel chrome iron alloy gradual change film and deposited by using the ion source. According to the result of testing, the films have good properties.
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