|
| 极紫外投影光刻技术 |
|
| |
| DOI: |
| 中文关键词: |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
|
|
| 摘要点击次数: 2201 |
| 全文下载次数: 9 |
| 中文摘要: |
| 在《科学通报》的“综合评述”栏目中,王占山等指出,极紫外光刻最有可能成为下世纪初批量生产线宽小于0·1m集成电路的技术,近年来得到了飞速发展,备受世界各国,尤其是美国和日本两个集成电路生产大国的密切关注。0.1m线宽门电路研制成功表明,极紫外光刻技术适合与现有其它技术相匹配,适合大批量生产,是现有光刻技术的合理延续。我国在极紫外投影光刻各单元技术研究中有相当基础,在适当资助下,完全可以发展我国自己的极紫外投影光刻技术。极紫外投影光刻技术 |
| 英文摘要: |
| |
| HTML 查看全文 查看/发表评论 下载PDF阅读器 |
| 关闭 |
|
|
|