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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
极紫外投影光刻技术
  
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中文摘要:
      在《科学通报》的“综合评述”栏目中,王占山等指出,极紫外光刻最有可能成为下世纪初批量生产线宽小于0·1m集成电路的技术,近年来得到了飞速发展,备受世界各国,尤其是美国和日本两个集成电路生产大国的密切关注。0.1m线宽门电路研制成功表明,极紫外光刻技术适合与现有其它技术相匹配,适合大批量生产,是现有光刻技术的合理延续。我国在极紫外投影光刻各单元技术研究中有相当基础,在适当资助下,完全可以发展我国自己的极紫外投影光刻技术。极紫外投影光刻技术
英文摘要:
      
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