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| 反应离子束蚀刻中温度效应的研究 |
| Reactive Ion Beam Etching and Thermal Effect |
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| DOI: |
| 中文关键词: 反应离子束蚀刻,温度效应 |
| 英文关键词:Reactive Ion Beam Etching,Thermal Effect, |
| 基金项目: |
| 杨李茗 舒晓武 |
| 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室!杭州310027 |
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| 中文摘要: |
| 介绍了一种新型的干法刻蚀方法──冷源反应离子束刻蚀法用来到蚀各种激光学器件,并着重研究了刻蚀过程中的温度效应,提出了解决温度效应的有效方法。 |
| 英文摘要: |
| A novel dry etching method, Reactive Ion Beam Etching (RIBE) technique,forfabricating Micro-Optical Elements (MOEs) is presented this paper. Thermal effect duringthe etching process is researched and some methods are discussed to solved it. |
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