用户登录
期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
反应离子束蚀刻中温度效应的研究
  
DOI:
中文关键词:  微光学器件,蚀刻,反应离子束蚀刻
英文关键词:
基金项目:
杨李若  舒晓武
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室!杭州,310027,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室!杭州,310027
摘要点击次数: 1850
全文下载次数: 13
中文摘要:
      微光学器件加工技术是微光学研究领域中最关键的技术,而蚀刻技术是衍射光学元件加工的关键技术之一。目前,常用的方法是等离子体蚀刻和反应离子蚀刻技术。本文提出一种新的蚀刻技术方案——反应离子束蚀刻RIBE,并着重研究了蚀刻过程中的温度效应,提出了解决温度效应的有效方法。
英文摘要:
      
HTML   查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭