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| 反应离子束蚀刻中温度效应的研究 |
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| DOI: |
| 中文关键词: 微光学器件,蚀刻,反应离子束蚀刻 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 杨李若 舒晓武 |
| 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室!杭州,310027,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室!杭州,310027 |
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| 中文摘要: |
| 微光学器件加工技术是微光学研究领域中最关键的技术,而蚀刻技术是衍射光学元件加工的关键技术之一。目前,常用的方法是等离子体蚀刻和反应离子蚀刻技术。本文提出一种新的蚀刻技术方案——反应离子束蚀刻RIBE,并着重研究了蚀刻过程中的温度效应,提出了解决温度效应的有效方法。 |
| 英文摘要: |
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