用户登录
期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
Ho^3+离子在YAG和YLF晶体中的光学参量
  
DOI:
中文关键词:  钬离子  YAG晶体  YLF晶体  光学参量
英文关键词:
基金项目:
黄莉蕾  陈晓竹
中国计量学院电子研究所
摘要点击次数: 2892
全文下载次数: 11
中文摘要:
      测试了Ho:YAG和Ho:YLF晶体的吸收谱和荧光谱,计算Ho^3+离子的振子强度参数fJ,J1^[c],辐射跃迁几率AJ,J1,荧光辐射寿命τJ^[c],并与实验测得的荧光辐射寿命τJ^[c]及振子强度的实验值fJ[c]比较。应用跃速率方程计算得出对应2.1μm的荧光强度最大的掺杂离子Ho^3+的最佳浓度分别为-2.5%和-1%左右。讨论了YAG和YLF作为掺Ho^3+的基质晶体优点。
英文摘要:
      
HTML   查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭