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期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
光刻技术综述
The Summary of the Lithography
  
DOI:
中文关键词:  光刻,激光,立体光刻
英文关键词:Lithography, Laser, Stereo lithography,
基金项目:
范华良  曹向群
浙江大学光科系 310027 杭州玉泉
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中文摘要:
      叙述了光刻技术在微电子、光学仪器制造中的发展情况,同时,介绍了近几年发展起来的立体光刻原理。
英文摘要:
      In this paper, the development of the lithography in the fields of microelectronics and optical instrument mamufacture is descripted. At the same time, the principle of the stereo lithography, which is being developed recently, is introduced.
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