用户登录
期刊信息
  • 主管单位:
  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主  编:
  • 庄松林
  • 地  址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
  • 邮政编码:
  • 200093
  • 联系电话:
  • 021-55270110
  • 电子邮件:
  • gxyq@usst.edu.cn
  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
  • 国内统一刊号:
  • 31-1504/TH
  • 邮发代号:
  • 单  价:
  • 15.00
  • 定  价:
  • 90.00
我国自行设计制造的JKG-3型半自动光刻机在沪通过鉴定
  
DOI:
中文关键词:  
英文关键词:
基金项目:
徐鑫培
上海光学机械厂
摘要点击次数: 3487
全文下载次数: 10
中文摘要:
      JKG-3型半自动接近式光刻机最近在沪通过鉴定,大会由光学公司付经理宋长标同志主持,中国科学院学部委员王守觉同志主持了鉴定委员会工作。本机是制造中、大规模集成电路的专用设备,能够以接近式方式进行曝光,性能稳定可靠,曝光均匀,送取片等工序自动作业并采用分离视场显微镜和双中心对准台,操作方便。同时也可用于软接触法晒印。经测试认为:该机在进行接近式曝光该验时,分离间隙在10~30μm时,负性光刻胶的分辨率
英文摘要:
      
HTML   查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
关闭