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期刊信息
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  • 中国科学技术协会
  • 主办单位:
  • 中国仪器仪表学会、上海光学仪器研究所、中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主    编:
  • 庄松林
  • 地    址:
  • 上海市军工路516号上海理工大学《光学仪器》编辑部
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  • 200093
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  • 021-55270110
  • 电子邮件:
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  • 国际标准刊号:
  • 1005-5630
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  • 31-1504/TH
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  • 90.00
软X射线共振反射方法表征Sc/Si多层膜界面化合物成分的计算研究
Characterization of interlayer composition in Sc/Si multilayers by soft X-ray resonant reflectivity method
投稿时间:2017-01-22  
DOI:10.3969/j.issn.1005-5630.2017.04.015
中文关键词:  软X射线共振反射  Sc/Si周期多层膜  界面成分  原子散射因子
英文关键词:soft X-ray resonant reflection  Sc/Si periodic multilayers  interface composition  atomic scattering factor
基金项目:大科学装置科学研究联合基金(U1432244)
作者单位
朱圣明 同济大学 物理科学与工程学院 先进微结构材料教育部重点实验室, 上海 200092 
李淼 同济大学 物理科学与工程学院 先进微结构材料教育部重点实验室, 上海 200092 
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中文摘要:
      Sc/Si周期多层膜是极紫外波段的重要材料,但膜层界面处材料原子间的扩散与化合反应严重影响了多层膜反射率。为了无损表征多层膜界面化合物的成分,利用软X射线共振反射的方法,研究了Sc/Si多层膜界面化合物成分。在Si的L吸收边附近,计算了不同周期厚度以及不同界面硅化物成分的Sc/Si多层膜的共振反射率。结果表明,界面硅化物成分不同的膜系在Si的L边处的反射率有明显差异,并且反射率随着膜层中Si化合反应的消耗而降低,证实了软X射线共振反射方法在亚纳米尺度下对化合物的成分进行无损分析的可行性,为后续的实验研究提供参考。
英文摘要:
      Periodic Sc/Si multilayers show high reflectivity in the 35-50 nm extreme ultraviolet(EUV) wavelength range.The diffusion and chemical interaction between scandium and silicon decrease the reflectivity of Sc/Si multilayer.In order to characterize the interfacial compound of Sc/Si multilayer nondestructively,soft X-ray resonant reflection method was studied in this paper.Along the Si L absorption edge,the resonant reflection of Sc/Si multilayer with different thickness and interfacial composition was calculated.The results show that the reflectivity along the Si L absorption edge is significant difference,and decreases as Si is consumed by the combination reaction in the multilayers.It indicates the feasibility of nondestructive analysis by soft X-ray resonant reflection in the sub-nanometer scale and lays a theoretical foundation for the experiment study.
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